MPI Manuelle Probe Systeme

Bild vergrößern

Beschreibung

Die manuellen MPI Probe Stations TS 50, TS 150, TS 200 und TS 300 sind ungeschirmte Systeme, die einfach zu bedienen, kostengünstig und sehr präzise sind. Damit können Substrate und Wafer von 50, 150, 200 und 300 mm Durchmesser mit höchster Genauigkeit analysiert werden.
Diese manuellen Probe Stations können so konfiguriert werden, dass sie eine Vielzahl von Anwendungen wie Charakterisierung und Modellierung, Design Validierung, Zuverlässigkeitsuntersuchungen sowie Leistungs- und Bauelemente-Tests unterstützen.

TS 50 manuelle Wafer Probe Station für präzise Analyse von Halbleitersubstraten und Wafern bis 50mm
TS 150 manuelle Wafer Probe Station für präzise Analyse von Halbleitersubstraten und Wafern bis 150mm
TS 150-HP manuelle Wafer Probe Station High Power für präzise Analyse von Halbleitersubstraten und Wafern bis 150mm
TS 150-THZ manuelle Wafer Probe Station für Terahertz Anwendungen (mm Wave) für Wafer bis 150mm
TS 200 manuelle Wafer Probe Station für präzise Analyse von Halbleitersubstraten und Wafern bis 200mm
TS 200-SE geschirmte 200 mm Wafer Probe Station zur Charakterisierung von kleinen Strömen und Spannungen
TS 300 manuelle Wafer Probe Station für präzise Analyse von Wafern bis 300 mm
TS 300-SE geschirmte 300 mm Wafer Probe Station zur Charakterisierung von kleinen Strömen und Spannungen

Datenblätter, Handbücher und Downloads

Hersteller